세미나 게시판읽기 ( 세미나 [ 04 / 12 ] 투과전자현미경 ( Transmission Electron Microscopy , TEM ) 의 원리와 원자층 증착법 ( atomic layer deposition , ALD ) 으로 형성된 나노 재료 분석으로의 적용 )

제목: 세미나 [04/12] 투과전자현미경 (Transmission Electron Microscopy, TEM)의 원리와 원자층 증착법(atomic layer deposition, ALD)으로 형성된 나노 재료 분석으로의 적용

작성일: 2017.04.03

작성자: 최고관리자

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< BK21 플러스 BEST 정보기술 사업단 세미나 개최 안내 >

개최일시 : 2017년 04월 12일 수요일 17:00 ~ 18:00

개최장소 : 제 1공학관 A669호

세미나 제목 : 투과전자현미경 (Transmission Electron Microscopy, TEM)의 원리와 원자층 증착법(atomic layer deposition, ALD)으로 형성된 나노 재료 분석으로의 적용

발표초록 :

투과전자현미경 (Transmission Electron Microscopy, TEM)의 기본적인 동작방법, imaging mode (bright field, dark field, high resolution), 결정에 의한 전자 회절 (electron diffraction), contrast 형성 원리, TEM을 이용한 조성 분석 방법인 EDS (energy dispersive spectroscopy)와 EELS (electron energy loss spectrometry)의 원리 등을 간단히 살펴본 후, TEM의 원자층 증착법 (atomic layer deposition, ALD)으로 형성된 나노 재료 분석에 대한 예를 통해, TEM 분석의 구체적인 활용 방안에 대해 설명한다.

강연자 : 김수현 교수/ 영남대학교

초청자 : 전기전자공학과 교수 김형준

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