< BK21 플러스 BEST 정보기술 사업단 세미나 개최 안내> 

개최일시 : 2018년 6월 4일 월요일 16:00 ~ 18:00

개최장소 : 제 3공학관 C616호

세미나 제목 : Who can save the next generation of process technology?

발표 초록 :

EUV 기반의 7nm Process를 사용한 양산 Product 설계와 생산이 현실화 되어 감에 따라 설계 Complexity는 지속 증가하나 진보된 Process 기술을 이용하여 설계적 한계를 극복할 수 있으리라는 기대 또한 커지고 있다. 그러나, 7nm 이하 공정 기술은 이를 구현하기 위한 복잡한 장비와 공정 Step들로 인하여, 반도체 제품의 Power, Performance, Yield 달성을 위해 과거 대비 더 많은 설계 인자와 더 넓은 기술 Coverage가 요구될 것이며, Quality를 보장하기 위한 설계자들의 Responsibility는 지속 증가할 것으로 예상된다. 본 Invited Talk에서는 이와 같은 기술 Trend를 알아보고, 7nm 이하 공정을 기반으로 한 성공적 설계를 위해 설계자들이 반드시 알아야 하는 것들에 대하여 이야기 하고자 한다.

강연자 성함&직함 / 소속 : 최정연 팀장 / 삼성전자 Foundry 사업부 Design Technology팀, Principal engineer

초청자 : 전기전자공학과 교수 강성호