※김현재 교수 연구팀이 high-k 물질의 게이트 절연막을 용액 공정을 통해 저온으로 제작한 연구를 세계적인 과학 저널 ‘Journal of Materials Chemistry C’에 발표하였다. 본 연구는 간단한 용액 열처리 공정을 진행함으로써, 저온에서의 박막 형성을 가능케하여 공정 온도를 획기적으로 낮출 수 있어 차세대 유연 전자 기술에 응용 가치가 매우 높을 것으로 예상된다. 

※본 연구는 연세대학교 전기전자공학부 김현재 교수(교신저자)가 지도하고, 석박통합과정 정주성 학생(제1저자)이 주도하였다.

※Prof. Hyun Jae Kim’s research team developed simple fabrication process of high-k gate insulator at low temperature. The thermal process for precursor solution used in this study assists film formation at low temperature. Thus, it is expected to be applied to flexible electronics widely.

※This research was guided by Prof. Hyun Jae Kim (contact author) and led by graduate student Jusung Chung (first author).